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我司的氧化鈮靶材采用先進的真空熱壓、熱等靜壓、冷壓燒結和熱噴涂工藝生產，產品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。

純度：99.99%；             

形狀：圓柱形、平面；          

冷壓燒結平面靶材尺寸：長寬范圍10-600毫米（可根據客戶的尺寸定制）。

管靶尺寸：外徑50-160mm，厚度4-17.5mm ；長度200-4000mm（可根據客戶的尺寸定制）；           

 密度：4.3 g/cm³～4.5g/cm³，相對密度＞99%；            

電阻率：小于0.1 ohm.cm（20 ℃） ；            

工藝：氧化鈮旋轉靶采用等離子噴涂工藝，氧化鈮平面靶采用冷壓燒結、真空熱壓、熱等靜壓三種工藝均可提供    ；         

用途：氧化鈮靶材，主要用于薄膜太陽能、光學玻璃鍍膜、觸摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜（低輻射玻璃）、半導體、觸摸屏、平板顯示器、工具裝飾鍍膜等。